產(chǎn)品時間：2024-06-02
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日本日立HITACHI超高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡Regulus系列 的詳細介紹
沿用"SU8200系列"的冷場發(fā)射電子槍*2
采用電子束在Flashing后出現(xiàn)的高亮度穩(wěn)定區(qū)域作為穩(wěn)定觀察的區(qū)間，使得低加速電壓條件下兼?zhèn)涓叻直嬗^察和分析的佳性能
與現(xiàn)有機型相比分辨率提高了20％左右
(Regulus8240/8230/8220: 0.9 nm/1 kV、Regulus8100: 1.1 nm/1 kV)
采用污染小、高真空樣品倉
運用能量過濾器(選配)，可觀察到多種成分對比度*2
極低著陸電壓下高分辨觀察日立高新超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡SU9000是專門為電子束敏感樣品和需300萬倍穩(wěn)定觀察的半導體器件，高分辨成像所設計。
新的電子槍和電子光學設計提高了低加速電壓性能。
0.4nm / 30kV（SE）
1.2nm / 1kV（SE）
0.34nm / 30kV（STEM）
用改良的高真空性能和的電子束穩(wěn)定性來實現(xiàn)高效率截面觀察。
采用設計的Super E x B能量過濾技術，高效，靈活地收集SE / BSE/ STEM信號。
